好消息!中國首條光子芯片產線即將建成,這就是「脫鉤」的代價

大家都知道,先進光刻機設備的缺失是擺在芯片國產化道路上最大的籬笆,沒有之一。而造成這種情況出現的主要原因就是,由于我們工業化起步較晚,發展早期又走上了錯誤的「買辦」路線,導致我們在高精度設備領域處處受制于人。

作為全球最先進的光刻機制造商,ASML生產的EUV光刻機卻成了國內企業「可望不可即」的設備,原因也很簡單,那就是其生產線上包含了大量的美技術和零部件,在沒有得到老美許可的情況下,是不能向大陸市場出貨的。

早在2018年,我國芯片制造企業就向ASML伸出了合作的橄欖枝,希望獲得EUV光刻機,但是在老美的干預下,本該到貨的先進光刻機至今都沒有音訊。

再加上,生產一台EUV光刻機設備需要全球5000多家供應商提供超過10萬個零部件,比如鏡頭來自德國蔡司,光源技術來自美國Cymer等。這也是ASML嘲諷我們就算有圖紙也造不出先進光刻機的原因。

盡管以中科院等為首的國內各科研機構也一直都在努力,但是想要在短時間內突破EUV光刻機技術難如登天。就算我們有所突破,也僅限于相當于DUV光刻機的水平。這并不是在「無腦唱衰」,而是事實。

在這樣的情況下,與其坐等ASML自由出貨EUV光刻機,還不如另辟蹊徑,找到一條完全屬于自己的新賽道,以解國內半導體產業鏈的燃眉之急。

然而,隨著國內市場傳來了一條重磅消息,似乎意味著國內半導體產業鏈將徹底擺脫對高端光刻機的依賴,同時也意味著西方搞「脫鉤」的代價還是來了。

因為就在近日,《北京日報》報道,中國首條「多材料、跨尺寸」的光子芯片生產線預計將于2023年在京建成。

可能還有很多人不知道什麼是光子芯片?相比于采用硅片的電子芯片,光子芯片主要采用InP、GaAS等二代化合物半導體材料,有著低成本和高性能的優勢。

另外,光子芯片行業以IDM模式為主流,其制備流程只側重外延設計和制備環節,不在于光刻環節。

最主要的是,光子芯片對結構的要求不高,百納米級再加上國內現有的原材料和設備就能完成生產,大大降低了對EUV光刻機設備的依賴。

當然,光子芯片的應用也很廣泛,包括通信、醫療檢測、數據中心等眾多關鍵領域,其運算速率也比電子芯片快約1000倍。

那麼問題來了,光子芯片能幫助國產芯片產業實現彎道超車嗎?答案很簡單,需要時間來驗證。首先,電子芯片已經形成了超過千億美元的市場規模,而光子芯片市場規模到2025年才有望達到561億美元。也就是說,短時間內后者替代不了前者。

其次,以光子芯片為基礎的產業鏈還不穩定,很多關鍵技術還需要完善。正所謂「不積跬步無以至千里」,一個新事物的出現都需要經歷從一無所知到游刃有余的過程,光子芯片也不例外。

但不管怎麼說,如今我們在「封鎖」中找到了一條新的賽道,也算是邁出了關鍵性的第一步。所以,我們完全有理由相信,在中國科學家的努力之下,國產光子芯片產業鏈一定能取得更多、更大的突破,期待這一天的到來。對于光子芯片,你們怎麼看?

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